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c.HORICOO 200
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Centrotherm产品
Centrotherm 扩散炉/LPCVD
c.HORICOO 200

卧式晶圆工艺批次处理系统支持多种工艺应用

 

特征及优势
  • 大气压加工、等离子增强化学气相沉积加工与低压化学气相沉积加工
  • 能提供任选加工腔方案
  • 先进的水冷却系统保证不同的工艺炉管之间无热干扰
  • 模块化部件设计,便于在洁净室内安装与启动生产
适合工艺:
  • 退火
  • 扩散
  • 氧化
  • 低压化学气相沉积
  • 等离子增强化学气相沉积

 

          
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