Activator 150

SiC和GaN退火及石墨烯生长

centrotherm Activator 150 高温炉生产线专为硅-碳化合物（SiC）或镓-氮化合物（GaN） 设备的后植入烧结而设计开发。Activator 150 可用于多种类型炉体， 如研发炉和批量生产炉， 且处理灵活性高。centrotherm 的无金属加热装置的独特设计允许处理温度高达 1850 °C 同时缩短了工艺循环时间。由于占据空间小、购置成本低，所以 Activator 150 可实现生产具有成本效益。

高活化率

表面粗糙程度最小

温度最高达 1850°C

批量规模高达 50硅片（150mm）

加热率最高达 150 K/min

通过SiH4可实现硅“过压