centrotherm E1200专为用于科研项目而设计的，适用于小批量生产和高性能用户，对各种要求的高工艺具有的灵活性。

centrotherm E1200小批量实验室系统，支持多种工艺能力，适用小批量生产和高性能用户，在较小占地面积上即可提供批量生产的所有特征

适用于常压以及LPCVD和PECVD工艺
特殊工艺腔体3或4种版本可供选择
先进的冷却系统:不同炉管之间没有热干扰
全自动片架传送系统
模块化部件设计，便于在洁净室安装调试

• 可达5层石英管或SiC管反应腔[硅片可达200mm]
  可选择工艺腔体
  
• 洁净自动化的装舟用于特级硅片工艺或其它衬底处理
  
• 全自动片架传送系统，工艺硅片尺寸可达200mm（E2000）
  
• 先进的冷却系统: 不同炉管之间没有热干扰
  
• 对洁净室环境温度无影响
  
• 模块化部件设计便于在洁净室安装调试